Responsabilità
- Sviluppo e ottimizzazione di processi litografici avanzati per applicazioni MEMS.
- Selezione, caratterizzazione e qualifica di materiali (photoresist, BARC, top coating, mask materials).
- Definizione dei parametri di processo: coating, baking, exposure, PEB, sviluppo, metrologia.
- Esecuzione di DOE, analisi statistica e modellazione delle variabili di processo.
- Risoluzione di problematiche di processo (defectivity, CD uniformity, layer‑to‑layer registration, pattern fidelity, adhesion, profile control).
- Supporto alla qualifica di nuove attrezzature e valutazione di nuove tecnologie litografiche.
- Collaborazione con team di integration e device per trasferimento tecnologico e miglioramento delle performance del prodotto.
- Redazione di documentazione tecnica (process flow, SPC, istruzioni operative).
- Fornire supporto tecnico a operatori e ingegneri di produzione.
Requisiti
- Laurea Magistrale o PhD in Ingegneria dei Materiali, Ingegneria Elettronica, Fisica, Chimica o affini.
- Almeno 5 anni di esperienza in litografia in ambiente semiconduttori o MEMS.
- Conoscenza approfondita dei processi di coating, bake, exposure e sviluppo; utilizzo di stepper e/o mask aligner.
- Competenze di metrologia (CD, SEM, profilometro, ellissometro).
- Esperienza con processi litografici per strutture spesse e ad alto aspect ratio.
- Capacità di analisi statistica dei dati (JMP, Minitab o equivalenti).
- Problem solving, approccio data‑driven e capacità di lavorare in team multidisciplinari e in cleanroom.
- Ottima conoscenza dell’inglese tecnico, scritto e parlato.
- Nice to have: esperienza in Nano‑Imprint Lithography (NIL), fotolitografia su wafer spessi o materiali speciali, background in MEMS design o process integration.
Retribuzione
48 000 – 60 000 € annui.
Per candidarti invia i tuoi dati a info@cercalavoro.com